Это выражается в развитии производств чипов «зрелых техпроцессов» (180–350 нм) и сопутствующих процессов. На более высоком уровне — в попытках сформировать собственные инструменты и инженерную инфраструктуру для следующих этапов фотолитографии, материаловедения и автоматизированного проектирования. Активно развивается направление RISC-V-архитектуры как открытой и свободной от зарубежных лицензионных ограничений основы для создания процессоров и микроконтроллеров.
Делаются ставки на нишевые, но перспективные технологии, где можно «срезать углы» и обогнать глобальных игроков: фотоника, MEMS-датчики (микроэлектромеханические системы), квантовые вычисления. Кроме того, формируется новый крупный сегмент спроса: электронная компонентная база (ЭКБ) для систем искусственного интеллекта.
Примечательно, что в реестре Минпромторга РФ пока практически отсутствуют российские MEMS и оптоэлектронные приборы (кроме светодиодов), что означает четкую возможность для будущих инженерных прорывов.
В целом, путь отрасли можно подвести к таким блокам:
- Производство полупроводников. Россия концентрируется на зрелых нодах (особенно 180 нм), актуальных для российской оборонной промышленности и других промышленных систем.
- Литография и оборудование. Были завершены разработки первых отечественных литографических машин, способных работать с 350 нм техпроцессом. Конечно, они значительно уступают современным, но шаги не могут не радовать.
- ИИ и инфраструктура. Много компаний активно внедряет ИИ в этапы рабочих процессов. В целом, использование ИИ стало трендом. К сожалению, во многих случаях — скорее внедрением ради внедрения. Тем не менее, ИИ находит применение в задачах, автоматизации. В первую очередь, речь про процессы, где легко посчитать эффективность: больше продукции/операций в единицу времени/меньше ошибок на объем. Но для всестороннего и фундаментального внедрения не хватает мощностей, CAPEX (показатель, который отражает капитальные затраты или долгосрочные инвестиции. — «Эксперт») слишком высок, не всегда ясны метрики.
Какие планы реализовать не удалось
Наиболее критичные для отрасли планы по созданию современного литографического оборудования (90 нм и ниже) пока очень далеки от реализации. Несмотря на декларации о долгосрочных целях (например, освоить 28 нм к 2027–2030 гг. или даже элитарные EUV‑решения к 2037 г.), в 2025 г. Россия по этим параметрам остается на десятилетия позади лидеров индустрии.
Ограниченный доступ к современной вычислительной инфраструктуре (современные GPU/ASIC) критически замедляет развитие как микроэлектроники, так и ИИ‑систем. По прежнему остается хроническим дефицит электронно компонентной базы. Отрасль действует в рамках модели «дизайн-центры + азиатская сборка». Идея создания в России собственных мощностей для массового выпуска чипов, которые могли бы конкурировать по цене и качеству с импортом, на практике пока не реализована.
Не решен пока и вопрос кадров. Нехватка кадров в отрасли связана с системным сбоем в подготовке специалистов в 1990-х и 2000-х гг, а также с невозможностью быстро переломить эту тенденцию. Как следствие, вузы физически не успевают подготовить нужное количество специалистов (например, к 2030 г. МИЭТ планирует подготовить 4,5 тыс. человек против потребности более 20 тыс.). Существует острый дефицит по узким специализациям, которые нельзя компенсировать простым увеличением приема: инженеры-технологи производства, разработчики САПР, операторы сложного технологического оборудования.
Больше новостей читайте в нашем телеграм-канале @expert_mag
